PP 半导体废水处理工程

PP 半导体废水处理工程——半导体湿制程使用高纯化学品，设备材料的金属析出与颗粒控制直接影响良率。 本方案针对半导体行业的氢氟酸(HF)、BOE、SPM(硫酸/双氧水)、APM(氨水/双氧水)等介质工况，提供从选型设计、防腐设备制造到现场安装调试的整体交付。

行业工况与挑战

• 典型介质：氢氟酸(HF)、BOE、SPM(硫酸/双氧水)、APM(氨水/双氧水)
• 运行温度：常温至 120℃（局部高温工序）；需电子级高纯 PPH/PVDF，焊缝洁净、可通球试压
• 合规要求：晶圆厂洁净规范与 ppb 级金属析出控制

方案构成

• PP 调节池盖板、反应槽、中和槽与絮凝沉淀槽，按水量分级
• PP 药剂储罐与计量加药系统（石灰 / PAC / PAM / 氯化钙）
• 含氟废水两级化学沉淀 + 斜管沉淀，配套污泥脱水
• PP 管路阀门与液位、pH 自动控制

工艺路线

调节均质 → pH 调整与化学沉淀 → 絮凝斜管沉淀 → 过滤后回用或达标排放；污泥压滤外运。

交付价值

• 源头工厂直供，价格与交期可控，支持非标定制
• PP-H / 高纯 PPH / PVDF 按介质与温度匹配，原料可追溯
• 按晶圆厂洁净规范与 ppb 级金属析出控制设计制造，验收达标
• 整线单一责任主体，长期质保与全国售后